韩国完成透光率超90%EUV薄膜开发，何时商用由三星决定

随着EUV（极紫外）工艺的导入有望正式开始，韩国企业开发的薄膜的商品化时机备受关注。

目前，在韩国，S&S Tech和FST已经完成了透光率超过90%的EUV薄膜的开发。业内人士表示，从物性、性能等方面来看，可马上应用于量产过程，但商业化的时机尚不明朗。业界人士称，掌握商业化关键的三星电子考虑到 EUV 薄膜损坏的风险，犹豫是否要应用这条生产线。 

业内人士7日表示，韩国企业也在配合扩大EUV工艺引进，稳步开发薄膜。S&S Tech已经成功开发出透光率为91%的EUV薄膜，FST也成功实现了90%以上的透光率。据了解，两家公司在耐用性方面已经完成了实验室阶段没有大问题的开发。

薄膜是在曝光过程中保护绘制半导体电路的光掩模的组件。可以保护价格高达每片5亿至10亿韩元的光掩模免受污染，并通过缩短更换周期来降低工艺成本和生产率。应用防护膜在成本方面更有优势。

据此，三星电子分别于2020年和2021年向S&S Tech和FST投资658亿韩元（8%股权）和430亿韩元（6.9%股权），以促进国产薄膜的发展。在三星电子的支持下，这两家公司在大约两年的时间里完成了薄膜的开发。

问题是，即使薄膜的开发已经完成，但还没有谈及商业化。尤其是业内传言，三星电子对此不冷不热。 据相关行业人士透露，三星电子之所以对应用EUV薄膜犹豫不决，已知是因为薄膜有损坏的风险。由于 EUV 过程是通过高输出能量进行的，因此存在过程中破坏薄膜的风险。如果在此过程中薄膜破裂，价值数千亿韩元的EUV设备必须停止，并且必须在数天或数周内清洗设备。清洁成本也是一个问题，但因工艺停工而导致的减产也是一个不小的负担。 

有分析认为，三星电子应将 SNS Tech 和 FST 开发的薄膜放入 EUV 工艺，测试是否存在损坏风险，以及需要什么指南来避免这种风险。但业内人士观察，由于存在薄膜损坏导致线路中断的风险，该建议并未应用。

事实上，台积电在经历了类似的经历之后，已经成功地将EUV薄膜内部化。台积电使用的是日本三井化学的EUV防护膜，以及自家采购的EUV防护膜，但据说在应用过程中因防护膜断裂而停产数次。特别是，目前商业化的EUV薄膜是由荷兰ASML和Tererodyne共同开发，日本三井化学生产的。经过充分的论证测试，薄膜积累了可靠的指导方针。

业内有多种观点认为，现在正是为韩国EUV薄膜积累论证数据的好时机。据说景气期没时间做实证检验，但在半导体行业不景气导致减产、工艺利用率下降的情况下，如同当前状态，还是值得一试的。一位业内人士强调，“最终，三星必须做出让国内EUV生态系统生根发芽的决定。”