Rapidus：已完成1台EUV光刻设备的筹备，计划2025年试产2nm

据媒体报道，由索尼、丰田、铠侠等8家日本企业出资成立的Rapidus计划2025年试产2nm工艺，并已完成了1台EUV光刻机的筹备。

Rapidus社长小池淳义日前在采访中透露，他们已经完成了1台EUV光刻机的筹备，但并未说明具体的型号及进度，不确定是ASML的哪款EUV光刻机，何时安装、测试也没公布。日本当前的逻辑工艺还28nm以上，但Rapidus选择跳过中间的工艺，直接研发2nm工艺，而5nm以下的工艺都离不开EUV光刻机，不论研发还是制造都要先买设备。

小池淳义表示，通常大规模量产先进工艺需要至少1000名工程师，但他们引入了AI和自动化技术，现在有500名工程师了，用一半的资源就能完成。在下一代芯片上，Rapidus与台积电是竞争对手，但Rapidus会专注在AI、超级电脑用芯片等用途，因此竞争应该不会那么大。

Rapidus计划在2025年试产2nm工艺，2027年量产，2030-2039年营收将达1万亿日元。