权威的存储市场资讯平台English

三星或在10nm以下DRAM工艺引入DSA技术

编辑:AVA 发布:2024-05-10 10:48

三星电子和英特尔等半导体公司正在研究定向自组装 (DSA) 技术,以补偿极紫外 (EUV) 工艺过程中出现的图案错误。

DSA是下一代图案化技术之一,这一技术有望补充 EUV 过程中出现的随机误差。随机是指随机且非重复的图案错误,已知占 EUV 图案错误的 50%。

业界预测,DSA技术将从使用High-NA EUV的1.4nm工艺和10nm以下的DRAM工艺开始正式引入。英特尔代工旗下逻辑技术开发部门光刻、硬件和解决方案主管Mark Philip日前表示,“使用 DSA(高数值孔径 EUV)的研究正在进行中,通过应用 DSA,我们正在改进模式粗糙度(LER)。”英特尔在近期发表的论文中表示,其将 DSA 技术应用于 18nm 以下工艺,并成功纠正了 EUV 图案中发生的随机误差。

推荐:电脑用的少,手机扫一扫,资讯快一步!

扫码关注我们

本文标签:

股市快讯 更新于: 12-24 10:15,数据存在延时

存储原厂
三星电子54200KRW+1.31%
SK海力士169600KRW0.00%
铠侠1585JPY+0.32%
美光科技89.720USD-0.44%
西部数据61.560USD+2.19%
南亚科32.05TWD+3.39%
华邦电子15.75TWD+3.62%
主控厂商
群联电子490.0TWD+2.19%
慧荣科技56.070USD+4.03%
联芸科技43.94CNY+0.48%
点序46.40TWD+2.43%
国科微71.47CNY-1.42%
品牌/模组
江波龙92.20CNY-1.86%
希捷科技88.530USD+1.40%
宜鼎国际219.5TWD+2.33%
创见资讯90.9TWD+0.66%
威刚科技79.7TWD+0.89%
世迈科技19.430USD+4.97%
朗科科技21.07CNY-4.36%
佰维存储64.18CNY-2.31%
德明利88.94CNY-1.62%
大为股份12.26CNY-2.23%
封测厂商
华泰电子36.20TWD+4.62%
力成125.0TWD+0.40%
长电科技38.55CNY-1.23%
日月光165.0TWD+2.80%
通富微电29.20CNY-0.78%
华天科技11.83CNY-0.84%