编辑：AVA 发布：2024-06-19 11:37
日本三井化学近日宣布，将开始量产半导体最尖端光刻机的光掩模防护膜新品，计划在日本山口县岩国大竹工厂内设置生产线，计划年产能力为5000张，生产线预计于2025年12月完工。可支持ASML将推出的下一代光刻机。
三井化学最新光掩模防护膜（pellicle）用于保护光掩模的清洁，需要具备高透明度和耐用性。2023年，三井化学与比利时的微电子研究中心imec携手合作，致力于推动极紫外（EUV）技术下碳纳米管制成的pellicle的商业化进程。
| 存储原厂 |
| 三星电子 | 54400 | KRW | +1.68% |
| SK海力士 | 168500 | KRW | -0.65% |
| 铠侠 | 1642 | JPY | +5.66% |
| 美光科技 | 89.280 | USD | -0.49% |
| 西部数据 | 61.700 | USD | +0.23% |
| 南亚科 | 31.20 | TWD | -2.19% |
| 华邦电子 | 15.60 | TWD | 0.00% |
| 主控厂商 |
| 群联电子 | 492.0 | TWD | +0.92% |
| 慧荣科技 | 56.485 | USD | +0.74% |
| 联芸科技 | 46.90 | CNY | +0.02% |
| 点序 | 46.30 | TWD | +0.65% |
| 国科微 | 70.81 | CNY | -2.10% |
| 品牌/模组 |
| 江波龙 | 94.00 | CNY | -2.59% |
| 希捷科技 | 88.490 | USD | -0.05% |
| 宜鼎国际 | 219.5 | TWD | +0.69% |
| 创见资讯 | 87.7 | TWD | -0.79% |
| 威刚科技 | 79.7 | TWD | +0.13% |
| 世迈科技 | 19.470 | USD | +0.21% |
| 朗科科技 | 22.78 | CNY | +1.15% |
| 佰维存储 | 69.40 | CNY | -0.46% |
| 德明利 | 89.43 | CNY | -1.40% |
| 大为股份 | 11.95 | CNY | -3.71% |
| 封测厂商 |
| 华泰电子 | 36.30 | TWD | +0.83% |
| 力成 | 126.5 | TWD | +1.20% |
| 长电科技 | 39.14 | CNY | -0.25% |
| 日月光 | 165.5 | TWD | +0.61% |
| 通富微电 | 29.65 | CNY | -0.74% |
| 华天科技 | 12.12 | CNY | +0.25% |
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